انتقال نانو ذرات در پلاسمای سیلان و تولید لایه های نازک سیلیکون آمورف

پایان نامه
چکیده

در ‎‎این پایان نام‎ه‎، تولید نانو ذرات و لایه های نازک سیلیکون آمورف توسط رسوب‎‎ گذاری بخار شیمیایی تقویت شده با پلاسم‎ا‎ (‎‎pecvd)‎‎‎ با روش اجزای محدود و همچنین روش سینتیک معادلات یونش بررسی می شود. گازهای زمینه ی موجود در رآکتور گاز سیلان و ‎گاز هیدروژن ‎ ‎‎‎‎(‎sih‎‎$‎_4‎ $‎ ‎‎, ‎h‎$‎_2‎$‎‎‎‎)‎ ‎ ‎‎‎است. اعمال یک میدان الکتریکی که با فرکانس رادیویی ‎‎‎‎‎rf‎‎‎ تغییر می کند، سبب برخورد الکترون ها با ‎‎مولکول ها و اتم های گاز زمینه می گردد‏ و به دنبال آن واکنش هایی رخ می دهد که منجر به تولید نانو ذرات سیلیکون می گردد. رسوب گذاری نانو ذرات تولید شده بر روی زیر لایه ها، سبب ایجاد و در نتیجه رشد لایه های نازک سیلیکون می شود. لایه های نازک سیلیکون تولید شده در قطعات الکترونیکی، سلول های خورشیدی و صفحه نمایش های تخت کاربرد دارد. در این پایان نامه، با حل معادلات شاره در محیط رآکتور، تولید نانو ذرات سیلیکون‏ و اثر تغییرات دما‏، فشار‏، فرکانس‏ و ولتاژ بر تولید گونه های مختلف مورد مطالعه قرار گرفته است.

منابع مشابه

بررسی اثر استفاده از رادیکال های گازی سیستم گازی آمونیاک و تری کلروسیلان بر رشد و خصوصیات لایه نازک نیترید سیلیکون آمورف لایه نشانی شده به روش لایه نشانی شیمیایی از فاز بخار در فشار پایین

In this paper, preparation and characterization of a-SiNx thin films deposited by LPCVD method from free radicals of TCS and NH3 gaseous system were investigated. These radicals are made by passing each of the precursor gases separately over Pt-Ir/Al2O3 catalyst at the temperature of 600 ᐤC. Kinetics of this process was investigated at different total pressures, NH3/TCS flow rate ratios and te...

متن کامل

مطالعه رسانایی جریان مستقیم لایه های نازک p۳ht آلاییده با نانو ذرات zns و ag

در سال های أخیر مطالعه در مورد نانو کامپوزیت های p3ht: zns به دلیل قابلیت استفاده آنها به عنوان لایه ای فعال در سلول های خورشیدی ناهمگون حجمی با ولتاژ باز بالا گسترش یافته است. در این گونه سلول های خورشیدی انتقال بار کارایی آنها را مشخص می کند. بنابراین، بررسی مکانیسم هدایت الکتریکی نانو کامپوزیت های p3ht:zns به منظور بهبود کارایی این گونه سلول های خورشیدی اهمیت به سزایی دارد. این مطالعه هم مکا...

متن کامل

حفظ خاصیت مغناطیسی نانو ذرات مغناطیسی بعد از پوشش سیلیکون

سابقه و هدف: نانوذرات مغناطیسی، بعد از پوشش ‌دهی، خاصیت اشباع مغناطیسی و در نتیجه قابلیت جذب آهنربایی در فرآیند جداسازی کاهش می‌یابد. در این مقاله پوشش ‌دهی نانوذرات مغناطیسی اکسید آهن با ضخامت بسیار نازکی از پوشش سیلیکا بررسی شده است که علاوه بر پایدارشدن نانوذرات از خاصیت مغناطیسی آن ‌ها نیز کاسته نمی‌شود.. مواد و روش­ها: این فرآیند با استفاده از ماده شیمیایی تترا اتوکسی سیلان انجام می  شود. ...

متن کامل

تاثیر قرار دادن لایه نازک سیلیکون در زیر غشای دی‌الکتریک بر روی عملکرد یک میکروهیتر

با توسعه ریزفناوری میکروماشین­کاری و میکروالکترونیک، میکروهیترها کاربردهای زیادی در میکروحسگرها پیدا کرده­اند. یکنواختی توزیع دما یکی از عوامل تاثیرگذار در افزایش حساسیت و دقت یک حسگر گازی است که در آن هیتر استفاده شده است. در این مقاله روش قرار دادن لایه نازک سیلیکون در زیر غشای دی­الکتریک به منظور بهبود یکنواختی گرما در میکروهیتر، مورد بررسی قرار گرفته است. دو میکروهیتر پلاتینی با ساختار غشای...

متن کامل

رشد و مشخصه یابی ساختاری و مغناطیسی لایه های نازک آمورف و نانو بلوری co-p

الکتروانباشت یکی از روش های لایه نشانی است که امکان رشد لایه های آلیاژی، تک لایه و چند لایه ای را در شرایط طبیعی دما وفشار فراهم می کند. در این پروژه لایه های co-p و co به روش الکتروانباشت در دو مد chc و cha تحت پتانسیل ثابت در الکترولیت تک حمام بر روی زیرلایه های cu و ti انباشت شدند. به منظور تهیه ساختاری کریستالی برای لایه های مذکور از دو روش استفاده کردیم: 1) تغییر دادن محلول 2) حرارت دهی نم...

15 صفحه اول

منابع من

با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید

ذخیره در منابع من قبلا به منابع من ذحیره شده

{@ msg_add @}


نوع سند: پایان نامه

وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه تحصیلات تکمیلی صنعتی کرمان - دانشکده علوم انسانی

میزبانی شده توسط پلتفرم ابری doprax.com

copyright © 2015-2023